東芝は，2006年5月11日に東京都内で経営方針説明会を開催した(Tech-On!関連記事)。同社 取締役 代表執行役社長の西田厚聰氏が壇上に上り，今後の事業目標や事業戦略を説明した。具体的には2010年度時点での売上高として9兆円，営業利益として5400億円を目指すという。このために，2006年度～2008年度の3年間の中期経営計画を示した。2008年度の売上高は7兆8000億円，売上高営業利益率は5％以上と，「国内電機メーカーとしてトップクラスの利益水準を実現したい」（西田氏）とした。この計画では売上高は2005年度から年率7％ずつ増やす計画となる。
この成長を牽引するのは，NANDフラッシュ・メモリを中核とした電子デバイス事業である。西田氏が今回明らかにした2008年度の部門別の事業目標では，電子デバイス事業の売上高，売上高営業利益率がそれぞれ2兆2900億円，10％としている。2008年度のデジタル・プロダクツ事業の売上高は3兆1000億円と電子デバイス事業を上回るものの，売上高営業利益率は2％にとどまる見込みだ。「デジタル・プロダクツ事業ではHDDで収益を確保し，映像事業の収益を改善したい」（東芝の西田氏）としている。残る社会インフラ事業の売上高は2兆1600億円，売上高営業利益率は4％を目指す。社会インフラ事業では，「原子力事業や医用機器事業で安定収益を得たい」（同氏）とする。家電事業の売上高は7500億円，売上高営業利益率は1％となる。全体を通して，電子デバイス事業偏重の姿勢が鮮明となっている。
今後の設備投資や研究開発投資も，電子デバイス偏重となる。全社の設備投資額については，2006年度～2008年度の3年間で2兆400億円と，2003年度～2005年度の3年間の1兆1323億円に比べてほぼ倍増する。2兆400億円の内，61％を電子デバイス事業に投じる。全社の設備投資額の約半分をNANDフラッシュ・メモリなどの半導体事業に向けることになる。NANDフラッシュ・メモリ向けについては，先日発表した四日市の300mmウエハー工場「FAB4」に加えて，四日市以外の場所での300mmウエハー新工場「FAB5」を建設する方向で検討を進めていることを明らかにした。
全社の研究開発投資については，2006年度～2008年度の3年間で約1兆2600億円を投じる。2003年度～2005年度の3年間の約1兆571億円に比べて約20％増加する。2006年度～2008年度に投じる1兆2600億円の約47％を，やはり電子デバイス事業に向ける。具体的には，次世代不揮発性メモリ，ブロードバンド機器向けマイクロプロセサ「Cell」の応用システム，小型メタノール燃料電池，SEDなどの研究開発を強化する。電子デバイス事業向け以外では，全社の研究開発投資の内，29％をデジタル・プロダクツ事業向け，19％を社会インフラ事業に向ける。
