半導体製造 プロセス技術や工場の動向を知るための
 

2014年3月31日号

半導体製造で逆転狙うキヤノン、ナノインプリントを実用化へ

5年前から、「ポストArF 液浸」目指して水面下で開発

聞き手=野澤哲生、今井拓司
2014/04/04 00:00
出典:日経エレクトロニクス、2014年3月31日号 、pp.10-11 (記事は執筆時の情報に基づいており、現在では異なる場合があります)
インタビューに答えるキヤノン 副社長 CTOの生駒氏
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 キヤノンは2014年2月、ナノインプリントを基にした半導体製造技術(NIL)のベンチャー、米Molecular Imprints社(MII)を買収し、100%子会社にすると発表した。NILは判型に微細な凹凸パターンを施し、ウエハーに圧着することでレジストを微細加工する技術。10年ほど前から光リソグラフィに代わる技術として脚光を浴びたが、技術的な課題が多く、実用化が遅れていた。そうした中でキヤノンがMIIを買収したのはなぜか。決断の背景と今後の勝算を同社 代表取締役副社長 CTOの生駒俊明氏に聞いた。

NIL(nanoimprint lithography)=ナノインプリントをレジストのパターニングに用いる技術群。

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