MOS FETの特性バラつきをいかに抑えるか。これが微細化に伴う最重要課題との認識が広がってきた。そこで,デバイスの加工形状を測定する物理計測技術が欠かせなくなってきた。連載の第4回は,デバイスの物理計測とそれを活用したプロセス・モニタリングの強力な手段である測長SEMを紹介する。測長SEMによるデバイス計測技術開発の最前線のほか,設計との連携によるプロセス制御の取り組みも解説する。
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