プロセス装置技術を理解するためには,最終的に作ろうとしているデバイス構造を知ることが欠かせない。このような視点から,連載の第2~4回では,まずDRAMやフラッシュ・メモリー,マイクロプロセサといったCMOSデバイス技術を総覧する。LSIの基本素子であるMOSトランジスタや多層配線についても解説する。各デバイスは,高集積化の課題を解決するために,新しい構造や材料を取り入れて進化してきた。それを支えるプロセス技術は,目的別にモジュール化が急速に進んでいる。各モジュールの組み合わせによって多様なデバイスが実現される。
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