Cover Story

LSI世界攻略の必要条件 -インドの設計力-

Part1：インドの役割 ●
“お手伝い役”から脱却，先端チップ設計で不可欠に
Part2：日本企業の取り組み ●
設計リソース確保に窮し，ようやく進出を開始

Emerging Technology

高分子材の限界を打破するレジスト，28nmを解像

Key Word

『べベル』

Key Person

数の力を生かし，テレビ事業で巻き返す

中国TCL Corp. Steven Shi氏

Interview

太陽電池で化合物半導体事業を飛躍

住友化学　中本雅美氏

Tutorial

原子像や金属組成比を可視化，歩留まりの早期改善に生かす

プロセス装置技術総覧（最終回）

Watcher[International]

  • 9月の半導体世界売上高，2カ月連続で過去最高を更新
  • 米国でブロードバンドの競争激化/台湾の基板装置メーカー，中国市場を狙う
  • 液晶パネル価格が上昇局面，テレビ向けは32型以下が底打つ

View Point

  • 【MEMS Global View】WLP向けガラス/Si基板，5年で倍増へ
  • 【大嶋洋一の知財イノベーション】大学の役割と特許活用
  • 【西岡幸一の産業俯瞰】東芝セラが示す新たな経営モデル

Special Feature

「セミコン・ジャパン2006」プレビュー

液浸と32nmを軸に装置・部材事業が拡大

LSI

【Inside】微細化・大口径化の停滞で業界再編へ

  • 【Report】過去最高を記録する縦型炉事業，枚葉式の特徴を取り込む
  • 【Report】メモリー，ロジックL S Iともに上昇，国内半導体大手の復調が鮮明に
  • 【Report】設計と製造で迅速にデータ交換，情報活用を20倍に高速化
  • 【Ranking】KLAの検査装置/ベンチャが太陽電池用Si増産/EUV露光装置の開発ほか

FPD

【Inside】50型級の大画面FPD市場，液晶とPDPが激突

  • 【Report】光利用効率を20～30％向上，表面パターン付き拡散板をクラレが開発
  • 【Ranking】55型「SED」/エプソンの装置が亀山第2に/SamsungのCEOが視察ほか

MEMS

【Inside】MEMS発振器の実力，高信頼性と高精度を両立

  • 【Report】MEMSの装置・ファウンドリ，LSI分野への事業展開に本腰
  • 【Ranking】MEMS市場予測/CTCがMicrovisionと提携/日本信号の小型プロジェクタほか

EDA

  • 【Ranking】アナログ技術者養成/沖電気がC言語記述のSoC受注/「先端ほどインドで設計」ほか

New Products

  • 欠陥検査装置：米KLA-Tencor Corp.
  • マスク基板検査装置：レーザーテック
  • 枚葉式ウエーハ洗浄装置：大日本スクリーン製造
  • 枚葉式ウエーハ洗浄装置：オーストリアSEZ AG
  • マスク・データ照合ソフトウェア：日立ハイテクノロジーズ
  • テスト・オプション：米Agilent Technologies Inc.
  • メタルCVD装置：東京エレクトロン
  • i線露光装置：ニコン
  • EB直接描画装置：アドバンテスト
  • ウエーハ検査装置：東レエンジニアリング
  • MEMS対応のMVD装置：米Applied Microstructures, Inc.
  • レジスト材：米MicroChem Corp.

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