日経テクノロジーオンライン

【EUV編(2)】課題は光源の高出力化

2013/05/24 00:00
大下 淳一、木村 雅秀=日経BP半導体リサーチ
出典:日経エレクトロニクス2012年11月26日号pp.70-73 (記事は執筆時の情報に基づいており、現在では異なる場合があります)
 LPP方式を採用しながら、高い変換効率を強みにするのが、ギガフォトンである。変換効率を高めるプリパルス技術として、Cymer社はCO2レーザを用いるのに対し、ギガフォトンは波長1μm帯のYAGレーザを利用する。「YAGレーザの方が、プリパルスで生じたSn表面のプラズマを透過しやすく、より効率的にSn液滴を砕ける」(ギガフォトン 代表取締役 副社長 CTOの溝口計氏)という。

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