2013年5月26~30日に金沢で開催されるパワー半導体の国際学会「ISPSD 2013」を現地からリポートします。
ISPSD 2013、2013年5月26~30日に金沢にて開催
2013年5月26~30日に金沢で開催されるパワー半導体の国際学会「ISPSD 2013」を現地からリポートします。
韓国Samsung Electronics社は、口径8インチ(200mm)のSi基板上に、ゲートに正の電圧を印加すると導通する「ノーマリー・オフ動作」のGaNパワー素子を試作し、パワー半導体に関する国際会議「ISPSD 2013」(2013年5月26~30日、石川県金沢市開催、主催は電気学会)で発…
米GeneSiC Semicondutor社は、耐圧が約10kVと高いSiC BJT(バイポーラ・トランジスタ)を開発し、パワー半導体に関する国際会議「ISPSD 2013」(2013年5月26~30日、石川県金沢市開催、主催は電気学会)で発表した(講演番号:6-1)。チップ・サイズが3.65mm…
デンソーは、製造工程の変更でリーク電流の抑制とオン抵抗の低減を両立させた、耐圧600Vのsuper junction(SJ)構造のパワーMOSFETを試作し、パワー半導体に関する国際会議「ISPSD 2013」(2013年5月26~30日、石川県金沢市開催、主催は電気学会)で発表した(講演番号:L…
富士電機と山梨大学のグループは、小型・軽量化を図った直接水冷方式の車載向けIGBTモジュールを開発し、その実現技術について、パワー半導体に関する国際会議「ISPSD 2013」(2013年5月26~30日、石川県金沢市開催、主催は電気学会)で発表した(講演番号:5-4)。耐圧は1200V、電流値は…
「ISPSD 2013(2013年5月26~30日に石川県金沢市で開催、主催:電気学会)」の会期3日目に開催されたポスター・セッションでは、韓国Samsung Electronics社と韓国SK Hynix社が、電力制御IC技術の開発成果をそれぞれ披露した。Samsung社の技術は自社のモバイル機…
ルネサス エレクトロニクスは、オン抵抗とEMI(電磁雑音)の両方を低減した耐圧30~40Vの車載用スーパー・ジャンクションMOSFET(SJ-MOSFET)を開発し、その詳細を「ISPSD 2013(主催:電気学会、2013年5月26~30日に石川県金沢市で開催)」で発表した(講演番号4-2)。S…
トヨタ自動車は、耐圧1400Vのトレンチ型SiC MOSFETを試作し、パワー半導体に関する国際会議「ISPSD 2013」(2013年5月26~30日、石川県金沢市開催、主催は電気学会)で発表した(講演番号:2-1)。特徴は、MOSFETに加わる電界や、ゲートードレイン間の電荷量(Qgd)を抑制…
三菱電機は、SiC MOSFETのしきい値電圧とキャリア移動度のトレードオフを緩和する製造技術について、パワー半導体に関する国際会議「ISPSD 2013」(2013年5月26~30日、石川県金沢市開催、主催は電気学会)で発表した(講演番号:2-4)。SiC MOSFETは一般に、しきい値電圧を高…
ドイツInfineon Technologies社は、SiCパワー半導体の製造工程において、SiC基板の厚さを初期状態の350μmから100μm前後にまで薄くするためのプロセス技術を開発し、その詳細を「ISPSD 2013(主催:電気学会、2013年5月26~30日に石川県金沢市で開催)」で発表し…
デンソーは、低い飽和電圧と高速のスイッチング動作を両立するSi-IGBT(insulated gate bipolar transistor)を開発し、その詳細を「ISPSD 2013(主催:電気学会、2013年5月26~30日に石川県金沢市で開催)」で発表した(講演番号1-3)。ダブルゲート構造…
アナログ半導体に特化したファウンドリー企業であるイスラエルTowerJazz社は、「ISPSD 2013」(主催:電気学会、2013年5月26~30日に石川県立音楽堂(石川県金沢市)で開催)に同社として初めて同学会での展示ブースを構えた。同社は兵庫県西脇市に200mm工場を持ち、今後この拠点でパワ…
パワー半導体に関する国際会議「The 25th International Symposium on Power Semiconductor Devices & ICs(ISPSD) 2013」(主催:電気学会、2013年5月26~30日に石川県立音楽堂(石川県金沢市)で開催)の本セッションが、2…