Siウエハーは、半導体産業の黎明期からずっと、デジタルICとアナログICにとって重要な基板であり続けてきた。それと同時に、GaAsやInP、SiGe、そしてサファイアといった基板や技術も、RFデバイスやLED、半導体レーザーといった用途で使われてきた。

　Siウエハーを活用してきたのは、デジタルICやアナログIC向けだけではない。20年以上前から、Siウエハーは深堀りRIE（反応性イオンエッチング）やウエハーレベル接合、そして特定の洗浄工程といったMEMSプロセスと組み合わされ、Siに新たな機能をもたらしてきた。圧力センサーや加速度計など、我々が知るMEMSデバイスは、まさにSiにもたらされた新たな機能の賜物である。では、最近はどうなのだろうか。

　Yole Developpement（以下、Yole）と、そのアナリストたちは日々、産業分野における技術トレンドとビジネス・チャンスを分析している。分析する分野は、MEMSとセンサー、イメージング（撮像）、医療技術、化合物半導体、LED、フォトニクス、パワーエレクトロニクス、太陽光、先端パッケージング、そして半導体製造である。そして、Yoleは市場調査と戦略コンサルティング会社として年間で約30もののレポートを発行している（詳細はこちら）。本稿では、こうした我々の活動を通じ見えてきた、2015年の予測を紹介したい。ひと言で表すと、2015年は特別な年になる。

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