韓国のディスプレイ関連の国際会議「IMID（International Meeting on Information Display）」（10月12～16日，KINTEX）で発表された論文の内容について，筆者の目から見た全体動向をまとめる（すべてのセッションは網羅できないため，分野がある程度限られていることをご承知願いたい）。今年は目玉となるようなパネルの発表はなかったが，次世代FPD製造技術に関する地道な研究成果が数多く発表され，興味を引かれた。特に酸化物TFTに関する発表は件数も多く，内容も多岐にわたり充実していた。

酸化物TFTの発表が充実

表1　IMIDで発表された主な次世代TFT（有機TFTは除く）
表中のSMDはSamsung Mobile Displayの略。著者が作成。
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　表1は，IMIDで発表された主な次世代TFTの一覧である。なお，今回のIMIDでは有機TFTの発表も多かったが，まだ量産を議論する段階には達してないと筆者はみているので，この表からは除いてある。

　特に発表件数が多かったのが酸化物TFTである。その材料としても，従来のIGZO（In-Ga-Zn-O）だけでなく，様々な材料で試作した報告を聞くことができた。例えば，Inを用いないAZTO（Al-Zn-Sn-O）などでも良好な特性が確保されており，酸化物TFTの材料選択もまだ議論の余地がありそうである。そして，これらの新しい酸化物TFTの特性が，基調講演で韓国Samsung Electronics Co., Ltd.が示した「a-Si TFTの一ケタ以上の移動度」という“次世代液晶パネル用TFT基板の要求値”を，まるで申し合わせたかのように見事に達成しているのが面白い。試作では有機ELパネル用途の例が多いが，次世代液晶パネル用のTFT基板としても十分使える可能性がある。