大手半導体製造装置メーカーに聞く
大日本スクリーン製造
45nm対応のアニールが好調
塗布・現像は液浸向けで挽回
末武 隆成 氏
取締役副会長
半導体機器カンパニー カンパニー社長
当初,2005年度の収益を厳しく予想していたが,最近になって受注が活発になってきた。通年では期初予想を上回る収益を確保できそうである。
製品別では,主力の洗浄装置が好調だった。枚葉式は研究開発向けを中心に売上高が対前年度比1.5倍に伸びた。量産向けのバッチ式も微増した。これにより,どちらの方式も40%以上のシェアを確保できた。45nmノード(hp65)以降向けでは,極浅接合(USJ: ultra shallow junction)形成に使うフラッシュランプ・アニール装置の立ち上がりが予想以上に順調だった。欧米を中心とする複数のユーザーに向け,すでに25台を出荷している。そのうち15台前後が量産向けである。さらにここ1〜2カ月,評価向けでの引き合いが急速に増えている。2006年度には,売上高に貢献する製品に育てたい。
一方,塗布・現像装置は伸び悩んでいる。2004年度にシェアが15%に伸びたことから,2005年度は20%のシェア獲得を目指した。しかし,他社に押し戻され,前年度並みかそれを下回る水準にとどまりそうである。ただし,この分野でも成果はあった。液浸露光に対応する機種の,ユーザーによる評価が進んだことである。2006年2月には液浸露光に対応する量産機を発売する。
2006年度には,洗浄装置をさらに強化していきたい。設計や製造を見直し,低コスト化や高スループット化を進める。塗布・現像装置の巻き返しも図っていく。今後この分野では,われわれの強みを生かせると考えている。液浸露光に対応するために,装置に洗浄機能を付加する必要があるためである。
さらに,フラッシュランプ・アニール装置を洗浄,塗布・現像に続くわれわれの事業の柱に育てていく。そのために,量産向けの出荷台数をさらに増やしていきたい。 (談)
SEMICON Japan 2004
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