大手半導体製造装置メーカーに聞く
オランダASM Lithography社（ASML）
ポスト液浸ArF見すえ
EUVアルファ装置を出荷
Noreen Harned 氏
Vice President, Marketing, Technology and New Business
2005年は，われわれにとって非常に良い年だった。経営面では2005年4〜9月期の平均販売価格が1500万ユーロ（140円/ユーロ換算で21億円）と高い水準を維持できた。米VLSI Research Inc.の顧客満足度調査でもトップの座を守った。技術面では開口数（NA）が1.2と業界最大の液浸ArF露光装置を発表した。技術の先進性や顧客中心主義を重視するわれわれの戦略が市場で評価されたと自負している。
2006年はメモリーが装置市場に大きな影響を与えると見ている。メモリー・メーカーは微細化を進めるために新型の露光装置を積極的に発注している。特に液浸ArF露光装置向けの需要が強く，2005年9月時点ですでに10台の受注残をわれわれはかかえている。垂直統合型のLSIメーカー（IDM）からも，プロセス開発向けに受注が増えている。
2006年の最大の課題は，世界初のEUV（extreme ultraviolet）露光向けアルファ装置を米Albany NanoTechとベルギーIMECに出荷することである。このような研究開発機関と協力し，ArF露光技術の次を担う技術を見極めていきたい。液浸ArF露光装置に関しても，引き続き延命策を模索しながら，出荷台数で競合他社を引き離す。
日本はわれわれにとって引き続き重要な市場であると考えている。日本における露光装置のシェアを2007年に20％以上に高めることを目指している。そのために，日本拠点の技術者を現在の1.3倍に増強する。技術サポートを徹底することによって，ユーザーの要求を先取りしていく。2005年は日本における5番目のユーザーを開拓できた。その企業には，同社にとって初めてとなる液浸ArF露光装置を納入する予定である。また，歩留まり改善に向けたマスク技術に関しては，東芝とライセンス契約を結ぶことができた。 （談）
SEMICON Japan 2004
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