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半導体・FPDの洗浄プロセス向け用途・製品化技術の
共同開発パートナ企業を発明工房が募集

[2005/01/21]

発明工房からの提案：

　半導体・FPD洗浄プロセスへの適用に向けた，
　用途技術開発や製品化技術開発のための共同開発パートナ企業の募集

詳細は下記のPDFファイルをダウンロードししてください。
（提案の詳細とロードマップ，技術の原理および構造の詳細説明，
セラミックス・パイプ部分の写真，オゾン水製造装置の全体構成図など）

発明工房詳細ファイル（invention.pdf）

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　オゾン洗浄は，すでに多くの半導体・FPDメーカーが導入しており，今後も適用範囲が拡大していく方向であるが，このような技術の常として低コスト化が要求されている。さらに，オゾン洗浄の個別課題の一つとして，オゾン水の濃度の経時変化や，この対策として投入する安定剤によるコンタミネーションの問題が上がっている。
　このような問題を解決するため，「液相乱流による気泡の微細化技術」を使ったオゾン水製造技術を開発した。半導体の洗浄プロセスに使われているオゾン水の製造コストを大幅に低減できる，オゾン濃度の経時変化の問題を解決できる，オゾン製造開始時に瞬時に立ち上がる，装置が小型で1,000時間連続運転が可能などのメンテナンス・フリーを実現した，といった各種の利点を持っている。
　この技術に関し，半導体・FPD洗浄プロセスへの適用に向けた，用途技術開発や製品化技術開発のための共同開発パートナ企業の募集を提案する。